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广州光伏光学用纯水设备的应用场景有哪些?

发表时间:2025-03-26 09:23
光伏光学用纯水设备主要应用于以下场景:

硅片生产

  • 硅片切割:在硅片切割过程中,需要使用纯水作为切割液的载体,带走切割过程中产生的热量和硅屑,防止硅片表面产生裂纹和损伤,同时保证切割精度。

  • 硅片清洗:切割后的硅片表面会残留切割液、硅屑和其他杂质,需要用纯水进行多次清洗,以去除这些杂质,确保硅片表面的洁净度,为后续的电池片生产工艺提供良好的基础。

太阳能电池片生产

  • 制绒:通过化学腐蚀的方法在硅片表面形成绒面结构,增加光的吸收效率。在制绒过程中,需要使用纯水来配制制绒液,并对硅片进行清洗,以保证绒面结构的均匀性和质量。

  • 扩散:将磷、硼等杂质扩散到硅片内部,形成 P-N 结。扩散过程中使用的扩散源通常需要用纯水进行稀释和清洗,以确保扩散的均匀性和准确性。

  • 刻蚀:去除硅片边缘的 PN 结,防止电池片边缘短路。刻蚀过程中需要使用纯水来配制刻蚀液,并对硅片进行清洗,以去除刻蚀过程中产生的杂质和残留物。

  • 镀膜:在电池片表面镀上减反射膜、钝化膜等,以提高电池片的光电转换效率。镀膜过程中需要使用纯水来清洗电池片表面,确保镀膜的质量和附着力。

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光伏组件生产

  • 玻璃清洗光伏组件的前板通常采用玻璃,在玻璃切割、清洗和组装过程中,需要使用纯水来去除玻璃表面的油污、灰尘和其他杂质,确保玻璃表面的洁净度,提高组件的透光率和封装质量。

  • EVA 胶膜铺设:EVA 胶膜在铺设前需要用纯水进行清洗,以去除表面的杂质和静电,确保 EVA 胶膜与玻璃和电池片之间的粘结效果。

  • 组件封装:在组件封装过程中,需要使用纯水来清洗封装设备和工具,防止杂质和污染物进入组件内部,影响组件的性能和寿命。

光学元件生产

  • 光学镜片研磨与清洗:在光学镜片的研磨过程中,需要使用纯水作为研磨液的载体,带走研磨过程中产生的热量和碎屑,保证镜片表面的平整度和光洁度。研磨后的镜片需要用纯水进行多次清洗,以去除表面的研磨液、碎屑和其他杂质,提高镜片的光学性能。

  • 液晶显示器(LCD)生产:在 LCD 生产过程中,需要使用纯水来清洗玻璃基板、光刻胶、彩色滤光片等部件,以去除表面的杂质和污染物,确保显示器的显示效果和质量。

  • 有机发光二极管(OLED)生产:在 OLED 生产过程中,纯水用于清洗基板、蒸发源等部件,以及配制有机材料溶液。高纯度的纯水可以避免水中杂质对 OLED 器件性能的影响,保证产品的发光效率和稳定性。

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